Ezen a héten több konferencián is részt vettem, ahol az eddigi kutatási eredményeinket mutattam be a vákuum-ultraibolya fényforásokkal kapcsolatban.

Az utóbbi néhány évtizedben egyre több kutatás is foglalkozik a kisnyomású higanygőz lámpa (amely 254 nm-en sugárzó változtatát hazsnálják az ipari víztisztításban) 185 nm-en is sugárzó változatával. A két fényforrás közötti különbség csupán a lámpabúra anyaga. A 185 nm-en sugázó LP lámpát nagytisztaásgú víz előállítására használják az iparban, és ennek hatására kezdték el szerves mikroszennyezők eltávolítására is alkalmazni. Az LP lámpa mellett az egyelőre még csak kísérleti méretekben alkalmazott Xenon-excimer lámpa a másik olyan fényforrás, amely szintén vákuum-ultraibolya fotonokat emittál, viszont 172 nm-en. Ez utóbbi is kiválóan alkalmas a kutatások alapján szerves szennyezők eltávolítására is.

Az Innovációs és Technológiai Minisztérium ÚNKP-20-3 -459 kódszámú Új Nemzeti Kiválóság Programjának a Nemzeti Kutatási, Fejlesztési és Innovációs Alapból finanszírozott szakmai támogatásával készült.